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연구실소개

소재공정연구실(Material processing laboratory)

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연구실 소개

본 연구실은 화학공학의 기본 원리에 근거하여 다양한 물리화학적 현상이 복합적으로 일어나는 화학공정 및 장치에 대한 해석을 수행하고 있다. 주로 유한요소법(finite element method)에 근거하여 화학공정 및 장치에 대한 모델링 및 시뮬레이션을 진행한다. 원활한 연구를 위하여 최신형 하드웨어를 탑재한 전산장비를 보유하고 있다.
쾌적한 연구환경조성을 위해서 각 종 실험기자재들은 별도의 공간에 설치되어있으며, 각 연구원 당 주어진 연구공간이 넓은 것 또한 쾌적한 연구환경 조성에 일조하고 있다.
본 연구실 생활을 통하여 다양한 화학공학 시스템에 대한 공학적, 수학적 해석능력을 함양할 수 있으며, 국내 유수한 기업들과의 협력 연구를 통하여 실제 산업현장의 연구과제를 수행하는 경험을 할 수 있다.
위와 같은 연구에 관심과 흥미가 있는 학생에게는 보다 상세한 연구실 생활에 대한 개별적 상담을 제공하고 있다.

소재공정 연구실 전경
지도교수 소개
  • 교수명 : 신 치범
  • 연구실 위치 : 서관 201호
  • 연락처 (교내) : 031-219-2388
    E-mail : cbshin@ajou.ac.kr
연구분야
  • 전기화학 시스템 설계 및 해석
  • 미세 유기무기 복합 시스템에서의 실시간 분자인식 현상 규명
  • 열유체를 이용한 에너지 네트워크 시스템 및 배관망 해석 기술
연구성과
  • S. M. S. I. Dulal, H. J. Yun, C. B. Shin, and C.-K. Kim, "Electrodeposition of CoWP Film, I. Electrochemical and Compositional Analyses," J. Electrochem. Soc., The Electrochemical Society, 154 (10), pp.D494-D501, 2007.10.
    (SCI 등재)
  • S. M. S. I. Dulal, H. J. Yun, C. B. Shin, and C.-K. Kim, "Electrodeposition of CoWP Film, III. Effect of pH and Temperature," Electrochimica Acta, Elsevier, 53(2), pp.934-943, 2007.12. (SCI 등재)
  • S. M. S. I. Dulal, C. B. Shin, J. Y. Sung, and C.-K. Kim,"Electrodeposition of CoWP Film II.
    Effect of Electrolyte Concentration," Journal of Applied Electrochemistry, Springer, 38(1),
    pp.83-91, 2008.01. (SCI 등재)
  • D. H. Lee, U. S. Kim, C. B. Shin, B. H. Lee, B. W. Kim, and Y.-H. Kim, "Modelling of the thermal behaviour of an ultracapacitor for a 42-V automotive electrical system," J. Power Sources, Elsevier, 175(1),
    pp.664-668, 2008.01. (SCI 등재)
  • J. Choi, C. B. Shin, and D. J. Suh, "Co-promoted Pt catalysts supported on silica aerogel
    for preferential oxidation of CO," Catalysis Communications, Elsevier, 9(5), pp.880-885, 2008.03. (SCI 등재)
  • U. S. Kim, C. B. Shin, and C.-S. Kim, "Effect of electrode configuration on the thermal behavior of a lithium-polymer battery," J. Power Sources, Elsevier, 180(2), pp.909-916, 2008.06. (SCI 등재)
  • S. M. S. I. Dulal, T. H. Kim, C. B. Shin, and C.-K. Kim,"Electrodeposition of CoWP film: IV. Effect of applied potential and current density," Journal of Alloys and Compounds, Elsevier, 461(1-2),
    pp.382-388, 2008.08. (SCI 등재)

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